삼성전자, 평택 2라인에 낸드 추가 투자···“내년 하반기 양산”

삼성전자가 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축한다.

1일 삼성전자는 지난달 평택 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했으며 내년 하반기 양산을 시작할 계획이라고 밝혔다.

낸드플래시는 전원이 꺼지면 저장된 자료가 사라지는 D램이나 S램과 달리 전원이 없는 상태에서도 데이터가 계속 저장되는 플래시메모리를 말하며 ‘비휘발성 메모리’라고도 부른다.

삼성전자의 이번 투자는 인공지능(AI), 사물인터넷(IoT) 등 4차 산업혁명 도래와 5G 보급에 따른 중장기 낸드 수요 확대에 대응하기 위해서다. 삼성전자는 “최근 '언택트' 라이프스타일 확산으로 이런 추세가 더욱 가속될 것으로 예상되는 가운데 적극적인 투자로 미래 시장기회를 선점해 나갈 것”이라고 설명했다.

평택캠퍼스는 지난 2015년 조성된 삼성전자 차세대 메모리 전초기지로서 세계최대규모의 생산라인 2개가 건설됐다. 이번 투자로 증설될 라인은 V낸드 제품을 양산할 예정이다. 삼성전자는 작년 7월 업계 최초로 6세대(1xx단) V낸드 제품을 양산한 바 있다.

최철 삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력"이라며 "최고의 제품으로 고객 수요에 차질 없이 대응함으로써 국가경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것"이라고 밝혔다.

삼성전자는 국내 화성과 평택, 중국 시안에서 낸드플래시 생산라인을 운영 중이다.