‘반도체 기술 中유출’ SK하이닉스 협력사 부사장 징역 1년6개월

[시사저널e=주재한 기자] SK하이닉스의 반도체 핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소된 협력사 부사장에게 실형이 확정됐다.

대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술보호법 위반·부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등) 등 혐의로 재판에 넘겨진 SK하이닉스 협력사 부사장 A(60)씨에게 징역 1년6개월을 선고한 원심을 확정했다.

해당 협력사 소속 임직원 4명 역시 징역 1년∼1년6개월 실형이 확정됐고 또 다른 직원에게는 징역 8개월에 집행유예 2년이 선고됐다. 협력사 법인에 대해서는 벌금 10억원이 확정됐다.

대법원은 “원심 판단에 논리와 경험의 법칙을 위반해 자유심증주의의 한계를 벗어나거나 산업기술보호법 위반에서 정한 국가핵심기술과 첨단기술, 부정경쟁방지법에서 정한 영업비밀 등에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다”며 검찰과 피고 측의 상고를 모두 기각했다.

A씨 등은 2018년부터 SK하이닉스와의 협업 과정에서 알게 된 하이케이 메탈게이트(HKMG) 공정 기술과 세정 레시피 등 핵심 반도체 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소됐다. HKMG는 반도체 공정에서 미세화에 따른 누설 전류 문제를 해결하기 위해 개발된 기술로 D램의 속도를 높이면서 소비 전력을 줄이는 차세대 반도체 제조기술이다.

또한 이들은 삼성전자 자회사인 세메스의 전직 직원을 통해 초임계 세정장비 도면 등 첨단 장비 기술을 몰래 취득한 뒤, 이를 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받았다.

앞서 2심 재판부인 서울고법 형사7부는 지난 5월18일 A씨에게 징역 1년6개월의 실형을 선고했다. 이는 징역 1년을 선고한 1심보다 형이 무거워진 것이다. 함께 기소된 연구소장 등 임직원 3명도 1심의 집행유예에서 모두 실형(징역 1년∼1년 6개월)으로 형이 상향됐으며, 협력사 법인에는 벌금 10억원이 선고됐다.

2심은 이들이 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 경쟁 업체에 넘긴 점을 유죄로 판단했다. 1심은 해당 기술이 양측의 공동 소유로 대외 발표만 금지된다고 봤지만, 2심은 기술을 경쟁사에 제공하려면 SK하이닉스의 사전 동의가 필요하다며 비밀유지 대상인 산업기술에 해당한다고 판단했다.

2심 재판부는 “피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리나라 산업 전반에 큰 영향을 미쳤다”며 “특히 부사장 A씨는 최종 결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여했다”고 지적했다.